產品關鍵詞概述：水性脫模劑高速膠體磨，涂料膠體磨，高剪切膠體磨，不銹鋼膠體磨，德國進口膠體磨，分體式膠體磨

水性脫模劑是用在兩個彼此易于粘著的物體表面的一個界面涂層，它可使物體表面易于脫離、光滑及潔凈。

水性脫模劑廣泛應用于金屬壓鑄、聚氨酯泡沫和彈性體、玻璃纖維增強塑料、注塑熱塑性塑料、真空發(fā)泡片材和擠壓型材等各種模壓操作中。在模壓中，有時其他塑料填加劑如增塑劑等會滲出到界面上，這時就需要一個表面脫除劑來除掉它。

脫模劑的具體作用原理如下：

1、極性化學鍵與模具表面通過相互作用形成具有再生力的吸附型薄膜；

2、聚硅氧烷中的硅氧鍵可視為弱偶極子（Si+-O-),當脫模劑在模具表面鋪展成單取向排列時，分子采取*的伸展鏈構型；

3、自由表面被烷基以密集堆積方式覆蓋，脫模能力隨烷基密度而遞增；但當烷基占有較大空間位阻時，伸展構型受到限制，脫模能力又會降低；

4、脫模劑分子量大小和粘度也與脫模能力相關，分子量小時，鋪展性好，但耐熱能力差。

上海思峻研發(fā)的膠體磨特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良，在原來GMD2000系列膠體磨為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

GMD2000水性脫模劑高速膠體磨為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

GMD2000膠體磨有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GMD2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

（價格電議：葛   公司有樣機可供客戶實驗?。?/span>

GMD2000系列膠體磨的結構：膠體磨是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

的特點：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念，將的技術與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中，為設備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術 采用的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

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GMD2000系列膠體磨設備選型表

 流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節(jié)到zui大允許量的10%。